研发流片服务

驰拓科技拥有国内唯一、国际上居于先进水平的28nm 12英寸后段工艺线，具备从技术研发到产品小规模量产的全套能力，可为客户提供全方位的流片及工艺开发服务，包括：

1. 无图案的介质薄膜沉积：如TEOS，SiN，LTO等。

2. 无图案的金属薄膜沉积：如Ta/TaN，Ti/TiN，W/WN，Al，Cu，Co，CoFe，Ru等。

3. 光刻材料涂布与光刻材料验证：如光刻胶、BARC、SOC等。

4. 表面平坦化：可支持Cu/ILD CMP, 工艺能力可以cover到28nm。支持OX/Cu/SiN/Ta/TaN/W等单层材料研磨。

5. 无图案的结构片加工：根据合作伙伴需求，提供多层膜的结构片加工及在线工艺检测服务。

6. 图案化的结构片加工：根据客户需求，提供包含28纳米技术节点以上的图案设计、光罩设计、图案化加工及在线工艺检测等多种服务和支持。

7. MRAM器件客户定制化研发：根据客户需求，提供定制化的MRAM器件研发。